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工业显微镜 LV100ND/LV100DA-U

新的光学系统令 ECLIPSE焕发新风采

ECLIPSE 显微镜机身采用模块化制造,可满足多领域的工业应用,其中包括半导体器件、封装、FPD、电子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSE LV 系列经过不断的发展完善并配备了新的光学系统和功能,可根据观察方法和目的 选择支架装置和照明装置以满足多种观察需求。用户可选择使用电动和手动操控模式以及反射照明专用模式和反射/透射组合照明模式以满足任何应用需求。

CFI60-2 经过改进的光学性能
以独特的高数值孔径和长工作距离设计理念而著称的尼康 CFI60 光学系统
经过进一步改进,具有一流 的长工作距离、色差校正性能和更轻的重量。

轻松的操作
与数码相机集成
现可使用数码控制装置来检测包括物镜信息在内的显微镜信息,以及对显微镜进行电动操作,以更高效地进行观察和图像拍摄。

观察方法
可支持多种观察方法:明场、暗场、偏光、微分干涉、落射荧光和双光束干涉测量观察功能。此外,LV100DA和LV100DA-U还可提供透射型微分干涉、暗场、偏光和相衬观察功能。

 

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